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      新啟航半導體有限公司


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      08
      2026
      -
      07
      高溫高壓硬密封球閥密封面平面度(Sealing Surfac...
      摘要:針對高溫高壓硬密封球閥(High-temperature and High-pressure Hard-sealed Ball Valve)密封面熱變形、平...
      高溫高壓硬密封球閥密封面平面度(Sealing Surface Flatness)的光學輪廓測量研究
      08
      2026
      -
      07
      MEMS 晶圓平面度 (Wafer Flatness)形變異...
      MEMS晶圓量產制程中,頻繁出現晶圓平面度(Wafer Flatness)超差、局部翹曲形變異常問題,直接引發光刻對位偏移、薄膜沉積均勻性失效,導致批量產品良率下...
      MEMS 晶圓平面度 (Wafer Flatness)形變異常,白光干涉儀鎖定內應力 (Internal Stress) 缺陷制定整改方案
      07
      2026
      -
      07
      共聚焦顯微鏡粗糙度偏差解析
      在半導體、超精密制造領域,表面粗糙度測量精度直接決定產品質量與服役性能。本文聚焦激光共聚焦顯微鏡(LCM)實測粗糙度數據偏差、重復性差的行業共性問題,結合ISO官...
      共聚焦顯微鏡粗糙度偏差解析
      07
      2026
      -
      07
      鏡筒定位面平面度管控及光學輪廓測量質檢方案
      摘要:鏡筒定位面(Lens barrel positioning surface)平面度直接影響光學組件同軸度(Optical assembly coaxiali...
      鏡筒定位面平面度管控及光學輪廓測量質檢方案
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