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        新啟航半導(dǎo)體有限公司


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        30
        2026
        -
        05
        微透鏡面形精度工藝異常依托白光干涉儀快速溯源整改、
        一、行業(yè)工藝痛點(diǎn)微透鏡是光學(xué)成像、光伏聚光、傳感模組的核心微型光學(xué)元件,其面形精度(Surface Figure)直接決定光學(xué)系統(tǒng)透光率、聚焦精度與成像品質(zhì)。量產(chǎn)...
        微透鏡面形精度工藝異常依托白光干涉儀快速溯源整改、
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        2026
        -
        05
        白光干涉儀(White Light Interferomet...
        一、行業(yè)檢測(cè)痛點(diǎn)分析超光滑樣品及超薄薄膜是半導(dǎo)體、光學(xué)器件、高端顯示面板的核心基礎(chǔ)材料,制備過(guò)程中易產(chǎn)生納米級(jí)雜質(zhì)凸起、膜厚不均、表面微劃痕、局部凹陷、膜層剝離等...
        白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)大視場(chǎng)(Large Field-of-View)測(cè)量在超光滑樣品工藝缺陷檢測(cè)中的應(yīng)用
        30
        2026
        -
        05
        白光干涉儀在鈣鈦礦電池激光刻蝕制程質(zhì)控中的精密檢測(cè)應(yīng)用
        一、鈣鈦礦電池激光刻蝕制程核心質(zhì)控痛點(diǎn)激光刻蝕是鈣鈦礦電池模組串并聯(lián)結(jié)構(gòu)制備的核心工序,P1、P2、P3多級(jí)溝槽的納米級(jí)深度精度,直接決定電池刻蝕品質(zhì)、膜層絕緣性...
        白光干涉儀在鈣鈦礦電池激光刻蝕制程質(zhì)控中的精密檢測(cè)應(yīng)用
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        白光干涉儀在鈣鈦礦電池P1/P2/P3劃槽工藝質(zhì)控中的精密檢...
        一、工藝痛點(diǎn):激光劃槽深度對(duì)鈣鈦礦組件性能的核心影響鈣鈦礦光伏組件P1、P2、P3激光劃槽是薄膜串聯(lián)成型的核心工序,劃槽深度、槽體形貌直接決定膜層刻蝕質(zhì)量與子電池...
        白光干涉儀在鈣鈦礦電池P1/P2/P3劃槽工藝質(zhì)控中的精密檢測(cè)應(yīng)用
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