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光學輪廓測量評估超臨界 CO?設備密封平面度防腐抗萃取（An...

正文超臨界 CO?（Supercritical CO?，SCO?）高壓工況流體滲透性強，易萃取密封防護層組分，密封端面 \\ 平面度（Flatness）缺陷形成的...

光學輪廓測量評估超臨界 CO?設備密封平面度防腐抗萃取（Anti-extraction）性能

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鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究

摘要鈣鈦礦光伏量產中，激光劃線產生的薄膜熱損傷是造成晶體畸變、組分流失、器件效率衰減的關鍵工藝缺陷。本文從皮秒激光參數優化 + 低溫氣氛退火實現熱損傷抑制，依托 ...

鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究

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白光干涉儀（White Light Interferomet...

一、研究背景超薄薄膜構件（Ultra-thin Film Component）是微納光學、半導體封裝（Semiconductor Packaging）、柔性電子（...

白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）高精度表征下超薄薄膜（Ultra-thin Film）表面瑕疵與工藝誤差關聯性研究

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MEMS梳齒結構線寬齒距失準，白光干涉儀校準光刻制程修正尺寸...

MEMS 慣性器件性能高度依賴梳齒電容尺寸精度，光刻量產受曝光能量波動、晶圓平整度、掩模形變、顯影速率差異影響，普遍產生梳齒線寬偏移、齒距不均、側壁傾斜等尺寸失準...

MEMS梳齒結構線寬齒距失準，白光干涉儀校準光刻制程修正尺寸偏差

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