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    新啟航半導(dǎo)體有限公司


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    05
    2026
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    06
    白光干涉儀(White Light Interferomet...
    一、研究背景超薄薄膜構(gòu)件(Ultra-thin Film Component)是微納光學(xué)、半導(dǎo)體封裝(Semiconductor Packaging)、柔性電子(...
    白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)高精度表征下超薄薄膜(Ultra-thin Film)表面瑕疵與工藝誤差關(guān)聯(lián)性研究
    05
    2026
    -
    06
    MEMS梳齒結(jié)構(gòu)線寬齒距失準(zhǔn),白光干涉儀校準(zhǔn)光刻制程修正尺寸...
    MEMS 慣性器件性能高度依賴梳齒電容尺寸精度,光刻量產(chǎn)受曝光能量波動、晶圓平整度、掩模形變、顯影速率差異影響,普遍產(chǎn)生梳齒線寬偏移、齒距不均、側(cè)壁傾斜等尺寸失準(zhǔn)...
    MEMS梳齒結(jié)構(gòu)線寬齒距失準(zhǔn),白光干涉儀校準(zhǔn)光刻制程修正尺寸偏差
    04
    2026
    -
    06
    USI 白光掃描:透明金屬疊層結(jié)構(gòu)微納形貌失真原理溯源(US...
    本文依據(jù)白光干涉儀官方技術(shù)手冊、半導(dǎo)體微納檢測國標(biāo)規(guī)范及《光學(xué)學(xué)報》《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》公開核心研究成果,聚焦半導(dǎo)體透明介質(zhì)/金屬基底疊層微納結(jié)構(gòu),溯源USI通...
    USI 白光掃描:透明金屬疊層結(jié)構(gòu)微納形貌失真原理溯源(USI White Light Scanning: Traceability of Micro-Nano Morphology Distortion Principle for Transparent-Metal Stack Structure)
    04
    2026
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    06
    基于光學(xué)3D輪廓儀深度標(biāo)定優(yōu)化光伏激光劃線與光電轉(zhuǎn)換效率研究
    摘要光伏、鈣鈦礦等薄膜光電器件激光劃線深度偏差會誘發(fā)基底損傷、薄膜殘留、斷路等缺陷,直接制約器件光電轉(zhuǎn)換效率提升。傳統(tǒng)二維測量、人工抽檢無法實現(xiàn)微納劃線深度精準(zhǔn)質(zhì)...
    基于光學(xué)3D輪廓儀深度標(biāo)定優(yōu)化光伏激光劃線與光電轉(zhuǎn)換效率研究
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