超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析
發(fā)布時間:
2026-08-11
作者:
新啟航半導體有限公司

超臨界二氧化碳(Supercritical CO?, scCO?)設(shè)備長期處于高溫、高壓強滲透工況,密封端面平面度(Sealing Flatness)是管控介質(zhì)滲漏、保障系統(tǒng)穩(wěn)定運行的核心參數(shù)。scCO?流體具備低黏度、高滲透性特性,密封端面微米級形貌偏差即可誘發(fā)微滲漏缺陷。傳統(tǒng)塞尺、百分表等接觸式檢測方式易損傷精密密封面,且無法捕捉微觀形變,檢測精度難以適配scCO?設(shè)備防滲漏質(zhì)量管控需求。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

光學輪廓測量技術(shù)(Optical Profilometry)依托白光干涉原理(White Light Interferometry, WLI),為非接觸式微納三維檢測技術(shù)(3D Micro-nano Detection Technology),可全域采集密封端面三維形貌(3D Morphology)數(shù)據(jù),精準量化平面度誤差、表面峰谷差值等核心指標,規(guī)避接觸檢測造成的表面二次損傷,有效識別密封面微小翹曲、形變及加工瑕疵。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

scCO?設(shè)備密封面平面度偏差直接決定密封間隙均勻性。平面度誤差>25μm時,端面貼合密實度大幅降低,易形成連續(xù)滲漏通道,設(shè)備滲漏率顯著升高;平面度控制在15μm以內(nèi)時,端面貼合均勻致密,可有效阻斷微滲漏路徑。該光學檢測方式可實現(xiàn)密封平面高精度質(zhì)量控制,為scCO?設(shè)備防滲漏性能優(yōu)化、密封裝配精度校準提供可靠數(shù)據(jù)支撐。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

多功能面型干涉儀(Multi-functional Surface Interferometer)應(yīng)用適配

該精密檢測設(shè)備可一站式完成微納級平面度、深孔臺階、陡峭錐面角度及三維輪廓檢測,全面適配scCO?設(shè)備硬密封零部件精密測量場景,解決傳統(tǒng)檢測設(shè)備功能單一、精度不足的行業(yè)短板。

四大核心技術(shù)革新(源自原廠白皮書及公開招標資料)

全域一鍵自動掃描:突破傳統(tǒng)光學測量深度受限、視野狹小的痛點,兼容平面度、臺階高度、多面平行度、錐孔等多維度精密檢測,適配密封件、噴油嘴等核心零部件檢測。實測典型工件數(shù)據(jù):噴油器密封端面平面度變形0.35μm,顱骨植入物平面度8.32μm,單幅標準掃描視野可達25mm。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

大尺寸多臺階平行度檢測:區(qū)別于傳統(tǒng)干涉儀僅支持單一平面測量的局限,設(shè)備可實現(xiàn)最大70mm多臺階結(jié)構(gòu)一體化形貌分析,測量重復精度可達5nm,大幅提升復雜密封構(gòu)件的檢測完整性。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

自動化批量測量模式:標準單幅測量視野23×18mm,支持最大200mm超大視野全自動跑點檢測,批量檢測效率顯著提升;可根據(jù)工業(yè)生產(chǎn)需求提供非標定制檢測方案,適配規(guī)模化、高精度質(zhì)控場景。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

異形結(jié)構(gòu)與雙平面精準檢測:兼具深錐孔、陡峭錐面角度高精度測量能力,拓展密封異形構(gòu)件檢測場景;搭載專屬光路設(shè)計,可同步完成透明/非透明工件厚度、上下平面平行度檢測,簡化檢測流程,提升精密質(zhì)控效率。

超臨界CO?設(shè)備密封平面度對防滲漏性能的光學輪廓測量分析

新啟航半導體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障,支持自動化定制;高端系列對標國際一線品牌,大視野設(shè)計,輕松應(yīng)對高低反射、復雜材料測量場景。


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