微透鏡陣列（Microlens Array, MLA）是精密光學、光電成像與光通信領域的核心元器件，其占空比（Duty Cycle of Microlens）、填充率（Fill Rate）、尺寸偏差（Dimensional Deviation）直接決定光學耦合效率與成像均勻性，是微透鏡量產(chǎn)質控的核心檢測指標。
傳統(tǒng)檢測多采用二維顯微觀測、接觸式輪廓掃描方式，存在參數(shù)分離測量、檢測精度不足、易損傷器件、檢測效率低下等問題，無法滿足高精度晶圓級微透鏡的批量量產(chǎn)檢測需求。
本文采用白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）非接觸式三維形貌測量技術，實現(xiàn)微透鏡三項核心參數(shù)一體化同步檢測，測量方式符合微透鏡陣列幾何特性測試通用技術規(guī)范。依托設備納米級縱向分辨率、微米級橫向分辨率的技術優(yōu)勢，可全域重建微透鏡三維表面形貌，精準提取單透鏡單元尺寸、陣列排布間距、有效透光區(qū)域面積等基礎核心數(shù)據(jù)。
通過專屬算法擬合運算，可同步輸出微透鏡陣列占空比、有效填充率，精準標定透鏡口徑、矢高、陣列間距的尺寸偏差，有效規(guī)避多設備切換檢測產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差。經(jīng)實測驗證，該一體化測量方案可達納米級檢測精度，參數(shù)重復性誤差低于0.1%，可精準甄別加工導致的陣列填充不均、尺寸超差、占空比偏移等工藝缺陷。
相較于傳統(tǒng)分立檢測方式，該方案無需樣品預處理、無檢測損傷，檢測效率提升70%以上，適配精密微透鏡器件實驗室檢測與工業(yè)化量產(chǎn)質控場景，可為微透鏡加工工藝優(yōu)化、產(chǎn)品良品率提升提供精準數(shù)據(jù)支撐。
DOE衍射光學元件異形結構檢測
（圖示為DOE衍射光學元件（Diffractive Optical Element, DOE）結構圖，清晰呈現(xiàn)元件微觀結構（Microscopic Structure），支撐衍射光學元件質量管控（Quality Control），保障半導體光學系統(tǒng)成像精度）
（圖示為微透鏡實測效果圖，精準還原微透鏡形貌（Morphology），為微透鏡加工精度（Processing Accuracy）檢測提供可靠依據(jù)，適配半導體微透鏡陣列檢測場景）
大視野3D白光干涉儀——微透鏡納米級測量解決方案（工業(yè)及半導體專用）
突破傳統(tǒng)測量技術局限，革新微透鏡（Microlens）及光學元件（Optical Components）檢測方式。大視野3D白光干涉儀依托核心創(chuàng)新技術，實現(xiàn)納米級（Nanoscale）全場景精密測量，憑借高效、高精度核心優(yōu)勢，適配微透鏡、衍射光學元件（Diffractive Optical Element, DOE）等各類光學部件檢測需求，重塑工業(yè)精密測量（Industrial Precision Measurement）行業(yè)標準，為半導體光學、精密光學領域提供權威檢測數(shù)據(jù)支撐。
核心優(yōu)勢：大視野+高精度，打破行業(yè)技術壁壘
破解傳統(tǒng)設備1倍以下物鏡（Objective Lens）僅可單孔檢測、需兩臺設備分別實現(xiàn)大視野觀測與高精度測量的行業(yè)痛點。設備搭載0.6倍輕量化專用鏡頭，配備15mm超大單幅視野（Single Frame Field of View），搭配可兼容4組物鏡的轉塔鼻輪（Turret Nose Wheel），單臺設備即可兼顧大視野全域觀測與納米級高精度測量，無需頻繁切換檢測設備，顯著提升檢測效率（Inspection Efficiency）與數(shù)據(jù)精準度（Data Accuracy），適配微透鏡等復雜光學樣品及半導體光學器件量產(chǎn)檢測場景。
核心測量能力及實測應用圖示說明
（圖示為光學元件關鍵指標實測數(shù)據(jù)，包含平面度誤差（Flatness Error）、峰值谷值（Peak-Valley, PV）、均方根值（Root Mean Square, RMS），可精準管控光學元件平面精度，為微透鏡等部件光學性能（Optical Performance）提供核心保障，適配半導體微透鏡高精度檢測需求）
（圖示為表面粗糙度（Surface Roughness, Ra）實測結果，檢測精度可達6pm（0.006nm），精準表征微透鏡表面光滑度，滿足高精度光學部件、半導體光學窗口片檢測標準，有效規(guī)避表面缺陷引發(fā)的光學損耗問題）
新啟航半導體｜專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障，支持自動化定制；高端系列對標國際一線品牌，大視野設計，輕松應對高低反射、復雜材料測量場景。
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