MLCC 全流程生產(chǎn)制程質(zhì)控(Production Process Quality Control),依靠光學(xué) 3D 輪廓儀完成銀漿厚度批量檢測(cè)
發(fā)布時(shí)間:
2026-07-02
作者:
新啟航半導(dǎo)體有限公司

多層陶瓷電容器(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC)端電極銀漿厚度直接決定器件焊接可靠性、阻抗穩(wěn)定性與服役壽命,是量產(chǎn)制程核心質(zhì)控指標(biāo)。傳統(tǒng)人工測(cè)量、接觸式測(cè)厚工藝易造成MLCC微型坯體破損、銀漿涂層形變,且存在數(shù)據(jù)重復(fù)性差、檢測(cè)效率低等弊端,無(wú)法適配高精度規(guī)模化量產(chǎn)需求。目前行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化質(zhì)控方案為采用光學(xué)3D輪廓儀(Optical 3D Profilometer),實(shí)現(xiàn)銀漿厚度高精度、大批量無(wú)損檢測(cè),全面覆蓋MLCC全流程制程質(zhì)控環(huán)節(jié)。該設(shè)備依托行業(yè)通用白光干涉原理(White Light Interferometry, WLI),嚴(yán)格遵循ISO 25178三維表面形貌檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)(公開(kāi)工業(yè)通用標(biāo)準(zhǔn)),采用非接觸式無(wú)損檢測(cè)模式,徹底規(guī)避接觸測(cè)量引發(fā)的工藝缺陷。依據(jù)主流設(shè)備廠商公開(kāi)招標(biāo)參數(shù),設(shè)備Z軸垂直分辨率可達(dá)0.1nm,適配MLCC端電極1μm~3μm常規(guī)銀漿涂布厚度區(qū)間,厚度檢測(cè)精度可達(dá)±0.2μm,可精準(zhǔn)采集銀漿厚度、邊緣爬坡輪廓及表面粗糙度(Roughness Average, Ra)等核心參數(shù),滿足微型化、高精密MLCC量產(chǎn)質(zhì)控要求。

MLCC 全流程生產(chǎn)制程質(zhì)控(Production Process Quality Control),依靠光學(xué) 3D 輪廓儀完成銀漿厚度批量檢測(cè)

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在MLCC全流程質(zhì)控體系中,該檢測(cè)設(shè)備可精準(zhǔn)適配絲網(wǎng)印刷(Screen Printing)、端電極燒結(jié)(Terminal Electrode Sintering)兩大關(guān)鍵工序,支持在線批量抽檢與全域全檢聯(lián)動(dòng)作業(yè)。相較于傳統(tǒng)檢測(cè)方式,設(shè)備批量檢測(cè)效率提升80%以上,可快速識(shí)別厚度超差、涂覆不均、局部缺漿等制程不良,及時(shí)攔截異常工件流轉(zhuǎn),穩(wěn)定提升制程良率。目前該檢測(cè)方案已廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、車載工控等高可靠MLCC量產(chǎn)場(chǎng)景,是行業(yè)通用的精密制程質(zhì)控手段。


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新啟航半導(dǎo)體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測(cè)量方案。亞納米精度保障,支持自動(dòng)化定制;高端系列對(duì)標(biāo)國(guó)際一線品牌,大視野設(shè)計(jì),輕松應(yīng)對(duì)高低反射、復(fù)雜材料測(cè)量場(chǎng)景。


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